[发明专利]用于半导体基板处理系统的先进的原位粒子检测系统在审
| 申请号： | 201780074433.3 | 申请日： | 2017-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN110024099A | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | L·张;X·卢;A·V·乐;F·姬;J·S·吴;P·L·史密斯;S·贾法里;R·P·安东尼奥 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种具有原位粒子检测器的FI和一种用于在所述FI中的粒子检测的方法。在一个方面中，所述FI包括：风扇、基板支撑件、粒子检测器、和排气出口。风扇、基板支撑件和粒子检测器经布置以使得：在操作中，所述风扇将空气引导朝向所述排气出口并将所述空气引导至在位于所述基板支撑件上的基板的上方以产生层流。被定位在所述基板支撑件的下游处并且在所述排气出口的上游处的所述粒子检测器在粒子被排出之前对空气进行分析并检测粒子浓度。收集的粒子检测数据可与来自在所述FI中的其他的传感器的数据相组合并且可被使用以识别出粒子污染的来源。所述粒子检测器还可被并入其他的系统部件(包括但不限于：装载锁定腔室或缓冲腔室)以检测其中的粒子浓度。 | ||
| 搜索关键词： | 粒子检测器 基板支撑件 排气出口 风扇 粒子 空气引导 粒子检测 半导体基板处理系统 粒子检测系统 缓冲腔室 粒子污染 锁定腔室 系统部件 在操作中 层流 传感器 检测 基板 排出 装载 上游 分析 | ||
【主权项】：
1.一种工厂接口，包括：风扇；基板支撑件，所述基板支撑件被定位在所述风扇的下游处；粒子检测器，所述粒子检测器耦接至所述工厂接口的内表面并且被定位在所述基板支撑件的下游处；粒子检测器管，所述粒子检测器管耦接至所述粒子检测器并且向在所述工厂接口内的位置开放；以及排气出口，所述排气出口被定位在所述粒子检测器的下游处。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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