[发明专利]真空泵以及配备于真空泵的控制装置在审
申请号: | 201780074547.8 | 申请日: | 2017-12-08 |
公开(公告)号: | CN110023629A | 公开(公告)日: | 2019-07-16 |
发明(设计)人: | 大森秀树;孙彦斌;三枝健吾;坂口祐幸 | 申请(专利权)人: | 埃地沃兹日本有限公司 |
主分类号: | F04D19/04 | 分类号: | F04D19/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李婷;谭祐祥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 实现一种能够以简单的结构提高再生电阻的散热性的真空泵以及配备于真空泵的控制装置。将再生电阻从控制装置取下而配设于真空泵侧。更详细而言,从搭载了控制电路的控制基板(控制装置)取出再生电阻,经由配线而配设于真空泵的基体。进而,在真空泵的基体与控制装置之间设置间隙。此外,在配设于真空泵的基体部分的再生电阻以及配线部分处设置罩(外覆体)。由此,再生电阻设置于热容量大的真空泵的基体,所以降低控制装置的温度上升。此外,在真空泵的基体与控制装置之间设置间隙从而基于空气的隔热效果提高,降低控制装置的温度上升。而且,通过在配设有再生电阻的部分处设置罩,能够降低产生的电气噪音,并且能够降低基体的间接的表面温度。 | ||
搜索关键词: | 真空泵 再生电阻 控制装置 降低控制装置 配线 从控制装置 电气噪音 隔热效果 控制电路 控制基板 配备 热容量 散热性 外覆体 取下 取出 | ||
【主权项】:
1.一种真空泵,具有控制装置和再生电阻部,所述控制装置具备控制基板部,所述控制基板部上配设有控制真空泵本体的控制电路,所述再生电阻部对控制前述真空泵本体从而产生的再生能进行处理,所述真空泵的特征在于,前述控制基板部配设在控制基板部用框体内,所述控制基板部用框体是内包该控制基板部的框体,前述再生电阻部从前述控制基板部经由配线而配设于前述真空泵本体。
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