[发明专利]顺序渗透合成设备

摘要

一种顺序渗透合成设备包括：反应室(2)，其被构造和布置成保持至少第一衬底(12)；前体分配和移除系统(3,5)，用于向该反应室提供气化的第一前体或第二前体以及从该反应室移除该气化的第一前体或第二前体；以及顺序控制器(40)，其可操作地连接到该前体分配和移除系统并且包括存储器M，该存储器M设置有程序，当在该顺序控制器(40)上运行该程序时，通过以下方式执行设置在该衬底(12)上的可渗透材料的渗透：激活该前体分配和移除系统以在该反应室中提供并保持该第一前体持续第一时间段T1；激活该前体分配和移除系统以从该反应室中移除该第一前体的一部分持续第二时间段T2；并且激活该前体分配和移除系统以在该反应室中提供并保持该第二前体持续第三时间段T3。

主权项

1.一种顺序渗透合成设备，其包括：反应室，其被构造和布置成保持至少第一衬底；前体分配和移除系统，用于向所述反应室提供气化的第一前体或第二前体以及从所述反应室移除所述气化的第一前体或第二前体；以及顺序控制器，其可操作地连接到所述前体分配和移除系统，并且包括存储器，所述存储器设置有程序，当在所述顺序控制器上运行所述程序时，通过以下方式执行设置在所述衬底上的可渗透材料的渗透：激活所述前体分配和移除系统以在所述反应室中提供并保持所述第一前体持续第一时间段T1；激活所述前体分配和移除系统以从所述反应室中移除所述第一前体的一部分持续第二时间段T2；并且激活所述前体分配和移除系统以在所述反应室中提供并保持所述第二前体持续第三时间段T3，其中所述存储器中的所述程序被编程为使得所述第一时间段T1长于所述第二时间段T2。