[发明专利]混合物及其制造方法、高分子、光学膜、光学各向异性体、偏振片、显示装置及防反射膜有效
申请号: | 201780077721.4 | 申请日: | 2017-12-14 |
公开(公告)号: | CN110088152B | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 坂本圭;奥山久美 | 申请(专利权)人: | 日本瑞翁株式会社 |
主分类号: | C08F220/26 | 分类号: | C08F220/26;C08F220/38;G02B5/30;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 赵曦;刘继富 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明的目的在于提供能够高效地制造可用于制备具有良好的反波长色散性的光学膜等的高分子的手段。本发明的混合物中,下述式(I)所示的聚合性化合物(I)的含量超过下述式(II)所示的聚合性化合物(II)的含量的0.2倍,式中,Ar |
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搜索关键词: | 混合物 及其 制造 方法 高分子 光学 各向异性 偏振 显示装置 反射 | ||
【主权项】:
1.一种混合物,为2种以上的聚合性化合物的混合物,包含下述式(I)所示的聚合性化合物I和下述式(II)所示的聚合性化合物II,以质量基准计,所述聚合性化合物I的含量超过所述聚合性化合物II的含量的0.2倍;或者,包含2种以上的下述式(I)所示的聚合性化合物I,并且实质上不包含下述式(II)所示的聚合性化合物II,式(I)和(II)中,Ar1和Ar2各自独立地表示至少具有D1作为取代基的2价芳香族烃环基或至少具有D1作为取代基的2价芳香族杂环基;D1表示具有选自芳香族烃环和芳香族杂环中的至少1个芳香环的碳原子数1~67的有机基团;Z1~Z4各自独立地表示单键、‑O‑、‑O‑CH2‑、‑CH2‑O‑、‑C(=O)‑O‑、‑O‑C(=O)‑、‑C(=O)‑S‑、‑S‑C(=O)‑、‑NR21‑C(=O)‑、‑C(=O)‑NR21‑、‑CF2‑O‑、‑O‑CF2‑、‑CH2‑CH2‑、‑CF2‑CF2‑、‑O‑CH2‑CH2‑O‑、‑CH=CH‑C(=O)‑O‑、‑O‑C(=O)‑CH=CH‑、‑CH2‑CH2‑C(=O)‑O‑、‑O‑C(=O)‑CH2‑CH2‑、‑CH2‑CH2‑O‑C(=O)‑、‑C(=O)‑O‑CH2‑CH2‑、‑CH=CH‑、‑N=CH‑、‑CH=N‑、‑N=C(CH3)‑、‑C(CH3)=N‑、‑N=N‑或‑C≡C‑,R21各自独立地表示氢原子或碳原子数1~6的烷基;A1~A4和B1~B4各自独立地表示能够具有取代基的环状脂肪族基或能够具有取代基的芳香族基;Y1~Y4和L1~L4各自独立地表示单键、‑O‑、‑C(=O)‑、‑C(=O)‑O‑、‑O‑C(=O)‑、‑NR22‑C(=O)‑、‑C(=O)‑NR22‑、‑O‑C(=O)‑O‑、‑NR22‑C(=O)‑O‑、‑O‑C(=O)‑NR22‑或‑NR22‑C(=O)‑NR23‑,R22和R23各自独立地表示氢原子或碳原子数1~6的烷基;R1~R6各自独立地表示氢原子、甲基或氯原子;a、b、g和h各自独立地为0或1;c、d、i和j各自独立地为1~20的整数;e和f中一者为1~3的整数,另一者为0~3的整数;在存在多个R2和R3的情况下,它们分别能够相同也能够相异。
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