[发明专利]硅异质结太阳能电池以及制造方法有效
申请号: | 201780078069.8 | 申请日: | 2017-11-13 |
公开(公告)号: | CN110140223B | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | P·劳佩;A·因杰尼托;C·巴利夫;G·诺加伊 | 申请(专利权)人: | 洛桑联邦理工学院 |
主分类号: | H01L31/0747 | 分类号: | H01L31/0747;H01L31/18 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王青芝;黄纶伟 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种异质结太阳能电池以及制造方法,异质结太阳能电池包括第一电极层、具有第二电极层、光吸收硅层和钝化导电叠层,钝化导电叠层设置在光吸收硅层与第一电极层和第二电极层中的至少一方之间,钝化导电叠层包括至少一个掺杂硅基层和电子带隙大于1.4eV的宽带隙材料层,在光吸收硅层与掺杂硅基层之间的表面上施敷宽带隙材料层,以形成耐热异质结,耐热异质结被设置成在600℃以上的热处理之后至少保持钝化和导电特性,钝化导电叠层与光吸收硅层之间的界面具有非常陡峭的掺杂分布,光吸收硅层中的掺杂物的强度在离界面小于5nm的距离内衰减至少一个数量级,钝化导电叠层和热处理被配置成防止掺杂物从钝化导电叠层扩散到光吸收硅层。 | ||
搜索关键词: | 硅异质结 太阳能电池 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种异质结太阳能电池,所述异质结太阳能电池包括第一电极层、具有金属接触层(300)的第二电极层、光吸收硅层(1)和钝化导电叠层(PC),所述钝化导电叠层(PC)设置在所述光吸收硅层(1)与所述第一电极层和所述第二电极层中的至少一方之间,其特征在于,所述钝化导电叠层包括至少一个掺杂硅基层(6)和电子带隙大于1.4eV的宽带隙材料层(10),在所述光吸收硅层(1)的、所述光吸收硅层与所述掺杂硅基层(6)之间的表面上施敷所述宽带隙材料层,以形成耐热异质结,所述耐热异质结被设置成在600℃以上的热处理之后至少保持钝化和导电特性。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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