[发明专利]使用纳米孔的电流测量装置和电流测量方法有效

专利信息
申请号: 201780080594.3 申请日: 2017-01-10
公开(公告)号: CN110121645B 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 松井一真;后藤佑介;赤堀玲奈;横井崇秀;藤冈满 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: G01N27/00 分类号: G01N27/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 陈彦;钟晶
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种电流测量装置,具备第一槽(11)、第二槽(12)、具有连通第一槽和第二槽的纳米孔(2)且配置于第一槽与前述第二槽之间的薄膜(3)、设于第一槽的第一电极(13)以及设于第二槽的第二电极(14),纳米孔的壁面具有防止填充于第一槽和/或第二槽的溶液(1)所含的离子的脱离吸附的防离子吸附结构(8),通过在第一电极与第二电极之间施加电压来测量通过纳米孔的离子电流。
搜索关键词: 使用 纳米 电流 测量 装置 测量方法
【主权项】:
1.一种电流测量装置,具备:第一槽,第二槽,具有使所述第一槽与所述第二槽连通的纳米孔且配置于所述第一槽与所述第二槽之间的薄膜,设于所述第一槽的第一电极,以及设于所述第二槽的第二电极;所述纳米孔的壁面具有防止填充于所述第一槽和/或所述第二槽的溶液所含的离子的脱离吸附的防离子吸附结构;通过在所述第一电极与所述第二电极之间施加电压来测量通过所述纳米孔的离子电流。
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