[发明专利]表面保护薄膜有效
| 申请号： | 201780081268.4 | 申请日： | 2017-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN110121416B | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | 渡部奈津子;三井数马;野中崇弘 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/00 | 分类号： | B32B27/00;B32B27/36;C09J7/25;C09J133/00;C09J175/04;C09J183/04;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种带隔离体的光学用表面保护薄膜，其中，在使用自动贴合机对带隔离体的光学用表面保护薄膜进行位置调整并在光学构件表面贴合剥离隔离体后的光学构件用表面保护薄膜时，基于隔离体的位置调整性优异，可以在光学构件表面以准确的位置粘贴光学用表面保护薄膜。本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜的特征在于，具有：在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在前述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体，前述隔离体具有脱模层和基材，前述隔离体的雾度为90％以上、总透光率为50％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 保护 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种带隔离体的光学用表面保护薄膜，其特征在于，具有：在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在所述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体，所述隔离体具有脱模层和基材，所述隔离体的雾度为90％以上、总透光率为50％以下。
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