[发明专利]表面保护薄膜有效
| 申请号： | 201780081294.7 | 申请日： | 2017-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN110114430B | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 渡部奈津子;三井数马;野中崇弘 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | C09J7/20 | 分类号： | C09J7/20;C09J7/40;B32B5/18;B32B27/00;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种带隔离体的光学用表面保护薄膜，其通过在构成层叠于光学用表面保护薄膜的隔离体的聚酯类基材中设置空洞，将聚酯类基材的比重控制得较低，从而将隔离体自身的重量控制得较低，使得作业性优异，进而，通过因具有空洞而缓冲性优异的隔离体，能够抑制由隔离体引起的压痕的产生。本发明的带隔离体的光学用表面保护薄膜的特征在于，具有：在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在前述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体，前述隔离体具有脱模层和聚酯类基材，在前述聚酯类基材中具有空洞，前述聚酯类基材的比重为1.2g/cm |
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| 搜索关键词： | 表面 保护 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种带隔离体的光学用表面保护薄膜，其特征在于，具有：在基材薄膜的至少单面具有粘合剂层的光学用表面保护薄膜、以及在所述基材薄膜的与粘合剂层接触的面的相反面具有的隔离体，所述隔离体具有脱模层和聚酯类基材，在所述聚酯类基材中具有空洞，所述聚酯类基材的比重为1.2g/cm3以下。
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