[发明专利]用于将电子部件烧结在基板上的烧结压机和方法有效
申请号: | 201780081826.7 | 申请日: | 2017-12-29 |
公开(公告)号: | CN110140201B | 公开(公告)日: | 2023-08-04 |
发明(设计)人: | 尼古拉·斯基瓦洛基 | 申请(专利权)人: | 奥托马特里克斯责任有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/60 |
代理公司: | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人: | 魏彦;洪玉姬 |
地址: | 意大利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 将电子部件(10)烧结在基板(12)上的烧结压机包括施压单元(14),该施压单元包括多杆缸(20),该多杆缸具有前头部(22)和后头部(24),该前头部和后头部共同界定压缩室(26)。在前头部(22)中,滑动地支撑平行且彼此独立的施压杆(28)。每个施压杆(28)均与待烧结的相应电子部件(10)共轴且重心一致,并且具有与待向相应电子部件(10)施加的力成比例的推动截面。密封膜(30)在压缩室(26)中延伸,该密封膜被变形以抵靠在施压杆上,以将烧结压力传递在每个施压杆(28)上。此外,本申请还涉及一种借助于烧结压机对基板上的电子部件进行烧结的方法。 | ||
搜索关键词: | 用于 电子 部件 烧结 基板上 方法 | ||
【主权项】:
1.一种对基板(12)上的电子部件(10)进行烧结的烧结压机,包括施压单元(14),所述施压单元包括多杆缸(20),所述多杆缸具有前头部(22)和后头部(24),所述前头部和所述后头部共同界定压缩室(26),在所述前头部(22)中,滑动地支撑平行且彼此独立的施压杆(28),每个施压杆(28)均具有与待烧结的相应电子部件(10)的重心一致的杆轴线,并且具有与待向所述相应电子部件(10)施加的力成比例的推动截面,待烧结的每个电子部件的面积和预定烧结压力是已知的,其中密封膜(30)在所述压缩室(26)中延伸,所述密封膜密闭地将所述压缩室(26)分为后室(26')和前室(26"),所述后室(26')与受压处于烧结压力的流体的入口通道(32)流体连通,所述压力杆(28)的后端(28')凸出到所述前室(26")中,所述密封膜(30)被放置成掠过所述压力杆(28)的所述后端(28'),使得当所述后室(26')被加压处于所述烧结压力时,所述密封膜(30)变形以抵靠所述后端(28'),以将所述烧结压力传递在每个施压杆(28)上。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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