[发明专利]基质印迹和清除在审

专利信息
申请号: 201780082228.1 申请日: 2017-11-08
公开(公告)号: CN110140175A 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 庄小威;J·R·莫菲特;J·G·郝;陆天 申请(专利权)人: 哈佛学院院长及董事
主分类号: G16B25/00 分类号: G16B25/00;C12Q1/6841
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张小勇
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明一般性涉及用于成像或测定例如细胞或组织内的核酸或其他所需靶标的系统和方法。在一个方面,将样品暴露于在样品中测定的多个核酸探针。但是,在一些情况下,背景荧光或脱靶结合可能使测定适当结合的核酸探针更加困难。因此,可以从样品中“清除”可能造成背景的样品的其他组分例如蛋白质、脂质和/或其他非靶标,以改善测定。然而,在某些实施方案中,可以例如使用样品中的聚合物或凝胶防止核酸或其他所需靶标也被清除。其他方面通常涉及包括此类系统的组合物或试剂盒,使用此类系统的方法等。
搜索关键词: 靶标 核酸探针 核酸 背景荧光 样品暴露 聚合物 试剂盒 基质 凝胶 印迹 脂质 成像 蛋白质 细胞
【主权项】:
1.一种方法,其包括:将样品暴露于多个核酸探针;聚合样品中的凝胶;将靶标锚定至凝胶;清除样品中的非靶标;和通过成像测定核酸探针的结合来测定凝胶内的靶标。
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