[发明专利]用于擦拭光电导表面的系统有效
| 申请号： | 201780083464.5 | 申请日： | 2017-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN110199228B | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 多伦·施卢姆;大卫·麦舒朗姆;亚温·阿茨蒙;塞缪尔·博伦斯坦;罗伊·哈思维 | 申请（专利权）人： | 惠普深蓝有限责任公司 |
| 主分类号： | G03G21/00 | 分类号： | G03G21/00 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 翟洪玲;周艳玲 |
| 地址： | 荷兰阿姆*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在示例中，第一擦拭器叶片用于接触光电导表面且用于从光电导表面擦拭颗粒和流体中的至少一些，并且其中第二擦拭器叶片用于接触光电导表面且用于从光电导表面擦拭已经经过第一擦拭器叶片的颗粒和流体中的至少一些。第一擦拭器叶片包括形成穿过擦拭器叶片的通道的至少一个穿孔，用于在擦拭期间传输颗粒和流体中的部分。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 擦拭 电导 表面 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于擦拭光电导表面的系统，所述光电导表面相对于所述系统移动，所述系统包括：至少两个擦拭器叶片，包括第一擦拭器叶片和第二擦拭器叶片；所述第一擦拭器叶片用于接触所述光电导表面且用于从所述光电导表面擦拭颗粒和流体中的至少一些；并且所述第二擦拭器叶片用于接触所述光电导表面且用于从所述光电导表面擦拭已经经过所述第一擦拭器叶片的所述颗粒和所述流体中的至少一些；其中所述第一擦拭器叶片包括形成穿过所述擦拭器叶片的通道的至少一个穿孔。
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