[发明专利]包括树脂膜和图案化的聚合物层的阵列有效
| 申请号： | 201780084858.2 | 申请日： | 2017-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN110248725B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | 韦恩·N·乔治;亚历山大·里切斯;M·谢恩·鲍恩;安德鲁·A·布朗;袁大军;奥德丽·罗斯·扎克;S·M·拉米雷兹;雷蒙德·坎波斯 | 申请（专利权）人： | 伊鲁米那股份有限公司;伊鲁米纳剑桥有限公司 |
| 主分类号： | C12Q1/6874 | 分类号： | C12Q1/6874;C12Q1/6869;C08J7/04;C08G77/38;C09D133/26;B01J19/00;C08L83/04 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 王玮玮;郑霞 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 阵列的实例包括支撑物、在支撑物的表面上的交联的环氧基多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)树脂膜以及在交联的环氧基POSS树脂膜上的图案化的疏水性聚合物层。图案化的疏水性聚合物层界定了交联的环氧基POSS树脂膜的暴露的离散区域，并且聚合物涂层被附接至暴露的离散区域。阵列的另一个实例包括支撑物、在支撑物的表面上的改性的环氧基POSS树脂膜以及在改性的环氧基POSS树脂膜上的图案化的疏水性聚合物层。改性的环氧基POSS树脂膜包括聚合物生长引发位点，并且图案化的疏水性聚合物层界定了改性的环氧基POSS树脂膜的暴露的离散区域。聚合物刷被附接至暴露的离散区域中的聚合物生长引发位点。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 树脂 图案 聚合物 阵列 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：在支撑物表面上的交联的环氧基多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)树脂膜上形成图案化的疏水性聚合物层，从而暴露所述交联的环氧基POSS树脂膜的离散区域；施加聚合物涂层以在所暴露的离散区域上形成附接的涂层部分并且在所述图案化的疏水层上形成未附接的涂层部分；以及将所述未附接的涂层部分从所述图案化的疏水层上洗掉。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于伊鲁米那股份有限公司;伊鲁米纳剑桥有限公司，未经伊鲁米那股份有限公司;伊鲁米纳剑桥有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780084858.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
