[发明专利]pH、氧化还原电位调节水的制造装置在审

专利信息
申请号: 201780086348.9 申请日: 2017-09-12
公开(公告)号: CN110291046A 公开(公告)日: 2019-09-27
发明(设计)人: 颜畅子;藤村侑 申请(专利权)人: 栗田工业株式会社
主分类号: C02F1/68 分类号: C02F1/68;B01D19/00;B01D61/00;B01F1/00;B01F3/04;C02F1/20;C02F1/58
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 陈曦;向勇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的pH、氧化还原电位调节水的制造装置,在超纯水(W)的供给线(1)上设有铂族金属负载树脂柱(2),在此后段具备pH调节剂注入装置(3A)和氧化还原电位调节剂注入装置(3B)。在此装置(3A、3B)的后段依次具有膜式脱气装置(4)和气体溶解膜装置(5),在气体溶解膜装置(5)连通有排出线(8)。排出线(8)的途中,设有pH计(10A)和ORP计(10B),这些pH计(10A)和ORP计(10B),与控制装置(11)连接。另外,基于pH计(10A)和ORP计(10B)的测量结果,来控制pH调节剂注入装置(3A)和氧化还原电位调节剂注入装置(3B)的注入量。根据该pH、氧化还原电位调节水的制造装置,能准确地调节pH和氧化还原电位。
搜索关键词: 氧化还原电位 注入装置 制造装置 氧化还原电位调节剂 气体溶解 膜装置 出线 铂族金属 负载树脂 控制装置 脱气装置 超纯水 供给线 注入量 后段 膜式 连通
【主权项】:
1.一种pH、氧化还原电位调节水的制造装置,其中,所述pH、氧化还原电位调节水的制造装置在超纯水供给线上,依次设置有过氧化氢除去机构、向超纯水添加pH调节剂的pH调节剂注入装置和向超纯水添加氧化还原电位调节剂的氧化还原电位调节剂注入装置,并且,所述pH、氧化还原电位调节水的制造装置具备:pH测量装置和氧化还原电位测量装置,该pH测量装置和氧化还原电位测量装置在所述pH调节剂注入装置和所述氧化还原电位调节剂注入装置的后段,以及控制装置,该控制装置基于所述pH测量装置和所述氧化还原电位测量装置的测定值,控制所述pH调节剂注入装置中的pH调节剂的添加量和所述氧化还原电位调节剂注入装置中的氧化还原电位调节剂的添加量。
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