[发明专利]用于三维光电渗析的装置和方法有效
| 申请号： | 201780087042.5 | 申请日： | 2017-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN110573238B | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | S.M.J.侯赛尼;D.茨维尔特尼;J.李;T.杨;A.H.G.阿尔塞迪 | 申请（专利权）人： | 衣阿华大学研究基金会 |
| 主分类号： | B01D61/42 | 分类号： | B01D61/42;B01D61/44;B01D61/46;B01D61/48;C02F1/46;C02F1/461;C02F1/469 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 蔡宗鑫;李建新 |
| 地址： | 美国衣*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种三维光/电渗析单元，包括四个隔室。第一隔室容纳三维电极和一组一种或多种电化学活性氧化还原物质。第一电活性阳离子选择性膜将所述第一隔室耦合到提供第一原料的第二隔室。电活性阴离子选择性膜将所述第二隔室耦合到提供第二原料的第三隔室。并且第二电活性阳离子选择性膜将所述第三隔室耦合到第四隔室。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 三维 光电 渗析 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种三维光/电渗析单元，其包括：/n第一隔室，所述第一隔室用于容纳三维电极和一组一种或多种电化学活性氧化还原物质；/n第一电活性阳离子选择性膜，所述第一电活性阳离子选择性膜用于将所述第一隔室耦合到第二隔室，所述第二隔室用于提供第一原料；/n电活性阴离子选择性膜，所述电活性阴离子选择性膜用于将所述第二隔室耦合到第三隔室，所述第三隔室用于提供第二原料；以及/n第二电活性阳离子选择性膜，所述第二电活性阳离子选择性膜用于将所述第三隔室耦合到第四隔室，所述第四隔室用于容纳第二组一种或多种电化学活性氧化还原物质。/n
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