[发明专利]光半导体元件有效
申请号: | 201780088584.4 | 申请日: | 2017-03-23 |
公开(公告)号: | CN110431720B | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 境野刚;中村直干;奥贯雄一郎 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01S5/026 | 分类号: | H01S5/026 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 半导体激光器(2)具有n型半导体衬底(1)和在n型半导体衬底(1)之上依次层叠的n型包覆层(4)、有源层(5)以及p型包覆层(6)。光波导(3)具有芯层(9)和包覆层(10),该芯层(9)位于n型半导体衬底(1)之上且设置于半导体激光器(2)的光输出侧,没有掺杂杂质,与有源层(5)相比禁带宽度大,该包覆层(10)设置于芯层(9)之上,与p型包覆层(6)相比载流子浓度低。半导体激光器(2)具有载流子注入区域(X1)以及在载流子注入区域(X1)和光波导(3)之间设置的非载流子注入区域(X2)。 | ||
搜索关键词: | 半导体 元件 | ||
【主权项】:
1.一种光半导体元件,其特征在于,具备:半导体激光器,其具有n型半导体衬底和在所述n型半导体衬底之上依次层叠的n型包覆层、有源层以及p型包覆层;以及光波导,其具有芯层和包覆层,该芯层位于所述n型半导体衬底之上并且设置于所述半导体激光器的光输出侧,没有掺杂杂质,与所述有源层相比禁带宽度大,该包覆层设置于所述芯层之上,与所述p型包覆层相比载流子浓度低,所述半导体激光器具有:载流子注入区域;以及非载流子注入区域,其设置于所述载流子注入区域和所述光波导之间。
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