[发明专利]等离子体产生系统有效

专利信息
申请号: 201780089052.2 申请日: 2017-04-04
公开(公告)号: CN110463354B 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 神藤高广;池户俊之 申请(专利权)人: 株式会社富士
主分类号: H05H1/00 分类号: H05H1/00;H05H1/26
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 杨青;安翔
地址: 日本爱知*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供能够更准确地计测出向被处理体照射的等离子体气体的实际温度的等离子体产生系统。等离子体产生系统具备:照射头,向设于反应室的电极供给电力而产生使处理气体等离子体化的等离子体气体,并将产生的等离子体气体向被处理体照射;及温度传感器,检测等离子体气体的温度,并输出与检测出的温度对应的检测信号。温度传感器配置在从照射头的照射等离子体气体的照射口离开的位置,并由照射头照射等离子体气体。照射头构成为能够在被处理体与温度传感器之间移动。
搜索关键词: 等离子体 产生 系统
【主权项】:
1.一种等离子体产生系统,其特征在于,具备:/n照射头,向设于反应室的电极供给电力而产生使处理气体等离子体化的等离子体气体,并将所产生的所述等离子体气体向被处理体照射;及/n温度传感器,检测所述等离子体气体的温度,并输出与检测出的温度对应的检测信号,/n所述温度传感器配置在从所述照射头的照射所述等离子体气体的照射口离开的位置,并由所述照射头照射所述等离子体气体,/n所述照射头构成为能够在所述被处理体与所述温度传感器之间移动。/n
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