[发明专利]制造图形凸纹结构的方法有效
| 申请号： | 201780091177.9 | 申请日： | 2017-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN110678332B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | T·特尔瑟;M·拜尔;D·弗莱舍;C·梅 | 申请（专利权）人： | 富林特集团德国有限公司 |
| 主分类号： | B41C1/00 | 分类号： | B41C1/00;C09D11/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 德国斯*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及制造在层结构上的图形凸纹结构的方法。此方法包括：提供具有基底层的层结构。然后将至少一种含有至少一种第一反应性组分的流体以图形方式施加到基底层上，其中以图形方式施加的操作是以多个具有小于2μl液滴体积的液滴的形式进行，和其中以图形方式布置这些液滴。然后，至少一种第一反应性组分在预定的曝光时间内至少部分地扩散到基底层中，和/或至少一种第二反应性组分在预定的曝光时间内至少部分地扩散到以图形方式布置的流体液滴中，其中基底层包含至少一种第二反应性组分。所形成的凸纹然后在加热和/或辐照的作用下经由涉及第一反应性组分和/或第二反应性组分的反应来固定。本发明还涉及根据所述方法制造的图形凸纹结构，以及图形凸纹结构作为印版、作为微流体部件、作为微反应器、作为原子间致导电性电池、作为用于显示颜色的光控元件、作为光子晶体或作为服装用品的柔性部件的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 图形 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造在层结构上的图形凸纹结构的方法，包括以下步骤：/na)提供具有基底层的层结构，/nb)任选地，部分地去除掩膜层，从而以图形方式暴露至少一个基底层，/nc)将至少一种含有至少一种第一反应性组分的流体以图形方式施加到基底层上，其中以图形方式施加的操作是以多个具有小于2μl液滴体积的液滴的形式进行，和其中以图形方式布置这些液滴，/nd)至少一种第一反应性组分在预定的曝光时间内至少部分地扩散到基底层中，和/或至少一种第二反应性组分在预定的曝光时间内至少部分地扩散到以图形方式布置的流体液滴中，其中基底层包含至少一种第二反应性组分，/ne)任选地，去除保留在基底层上的流体，/nf)所形成的凸纹在加热和/或辐照的作用下经由涉及第一反应性组分和/或第二反应性组分的反应来固定，和/ng)任选地对凸纹进行后处理。/n
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