[发明专利]衬底处理装置和方法在审
申请号: | 201780092120.0 | 申请日: | 2017-06-21 |
公开(公告)号: | CN110770365A | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
发明(设计)人: | T·马利南;V·基尔皮;M·普达斯 | 申请(专利权)人: | 皮考逊公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;B01J3/02;C30B25/14;B01J3/03;B01J3/04 |
代理公司: | 11256 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 赵林琳 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 芬兰;FI |
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摘要: | 一种衬底处理装置,包括密封压力容器,诸如原子层沉积ALD装置;流体入口组件,被附接到密封压力容器的壁,该流体入口组件具有穿过壁的流体入口管;以及弹性元件,在流体入口组件中的流体入口管周围,从而将入口管耦合到壁,其中弹性元件的内部表面和外部表面中的一个表面受到在压力容器内主导的压力并且另一表面受到环境压力,以及其中流体入口管防止被携带到内部的流体与所述弹性元件接触;以及一种相关方法。 | ||
搜索关键词: | 流体入口组件 流体入口管 弹性元件 密封压力容器 衬底处理装置 原子层沉积 环境压力 内部表面 外部表面 压力容器 入口管 耦合到 流体 穿过 携带 主导 | ||
【主权项】:
1.一种衬底处理装置,包括:/n密封压力容器;/n流体入口组件,被附接到所述密封压力容器的壁,所述流体入口组件具有穿过所述壁的流体入口管,所述装置还包括:/n弹性元件,在所述流体入口组件中的所述流体入口管周围,从而将所述入口管耦合到所述壁,其中所述弹性元件的内部表面和外部表面中的一个表面受到在所述压力容器内主导的压力并且另一表面受到环境压力,以及其中所述流体入口管防止被携带到内部的流体与所述弹性元件接触。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的