[发明专利]形成下层膜的组合物、图案形成方法及形成图案的下层膜形成用共聚物在审

专利信息
申请号: 201780092950.3 申请日: 2017-12-20
公开(公告)号: CN110869851A 公开(公告)日: 2020-03-06
发明(设计)人: 服部贵美子;森田和代 申请(专利权)人: 王子控股株式会社
主分类号: G03F7/11 分类号: G03F7/11
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 赵曦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种形成下层膜的组合物,该形成下层膜的组合物的材料对有机溶剂的溶解度较高,可通过在大气下且相对低温的加热处理而形成难以破裂的下层膜,在形成有下层膜的情况下对于有机溶剂的涂布膜残留率较高。本发明是一种形成下层膜的组合物及图案形成方法,该形成下层膜的组合物包含共聚物及有机溶剂,共聚物具有聚合部a及聚合部b,聚合部a具有糖衍生物部,糖衍生物部为五碳糖衍生物部及六碳糖衍生物部中的至少一者,聚合部b不具有糖衍生物部,该形成下层膜的组合物为用于图案形成的下层膜形成用。
搜索关键词: 形成 下层 组合 图案 方法 共聚物
【主权项】:
暂无信息
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