[发明专利]成膜掩模的制造方法在审
申请号: | 201780093312.3 | 申请日: | 2017-08-31 |
公开(公告)号: | CN110997969A | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 岸本克彦;崎尾进 | 申请(专利权)人: | 堺显示器制品株式会社 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04 |
代理公司: | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 | 代理人: | 王娟 |
地址: | 日本国大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 在掩模基材形成开口部的工序包含:工序A,形成第一区域(R1)内的开口部,其包含至少包含第(n/2)列或第{(n+1)/2}列的a根连续的列的开口部;工序B,形成第二区域(R2)内的开口部,其隔着包含sa根连续的列的第一间隙区域(RS1),在‑x方向上与第一区域(R1)邻接,包含b根连续的列的开口部;工序C,形成第三区域(R3)内的开口部,其隔着包含sb根连续的列的第二间隙区域(RS2),在x方向上与第一区域(R1)邻接,包含c根连续的列的开口部;在工序A之后进行工序B及工序C。 | ||
搜索关键词: | 成膜掩模 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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