[发明专利]多版本库单元处置以及由此制作的集成电路结构在审

专利信息
申请号: 201780094094.5 申请日: 2017-09-20
公开(公告)号: CN110998841A 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: R.库马尔;施全;M.T.博尔;A.W.杨;S.查克拉瓦蒂;B.A.查佩尔;M.C.韦布 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L27/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 徐予红;刘春元
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 描述了多版本库单元处置和由此制作的集成电路结构。在示例中,一种集成电路结构包括沿衬底的第一方向平行并且沿与第一方向正交的第二方向具有节距的多条栅极线。单元类型的第一版本在多条栅极线的第一部分上方,单元类型的第一版本包括沿第二方向具有第二节距的第一多条互连线,第二节距小于第一节距。
搜索关键词: 版本 单元 处置 以及 由此 制作 集成电路 结构
【主权项】:
暂无信息
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