[发明专利]包括在高离子轰击和低压沉积环境下制备的氧化钨膜的耐用电致变色器件及其制造方法有效
| 申请号： | 201780094745.0 | 申请日： | 2017-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN111065758B | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | F·布兰卡德;B·巴卢卡斯;L·马丁努 | 申请（专利权）人： | 依视路国际公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/35;G02F1/1523 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 张振军;刘娜 |
| 地址： | 法国沙*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明的某些示例实施例涉及电致变色器件(100，1500)、结合了电致变色器件的组件及其制造方法。高度耐用的电致变色器件包括使用高速率偏压增强溅射沉积制备的氧化钨(例如，W0 |
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| 搜索关键词： | 包括 离子 轰击 低压 沉积环境 制备 氧化钨 耐用 变色 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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