[发明专利]刮除结构及其生成方法、存储器资源及系统有效
| 申请号： | 201780094827.5 | 申请日： | 2017-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN111132849B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | Y·阿茨蒙;I·措米克 | 申请（专利权）人： | 惠普印迪格公司 |
| 主分类号： | B41M3/00 | 分类号： | B41M3/00;A63F3/06 |
| 代理公司： | 北京市汉坤律师事务所 11602 | 代理人： | 魏小薇;吴丽丽 |
| 地址： | 荷兰阿姆*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在本公开的一个示例中，在打印机处提供基本透明的衬底。将底漆层施涂到所述衬底的第一表面上。将包括安全信息的安全油墨层施涂到所述底漆层上。将不透明背景油墨层施涂到所述安全油墨层上。对第二表面施加电晕处理，所述第二表面位于所述衬底的相对于所述第一表面的相反面上。将释放性油墨层施涂到经电晕处理的第二表面上。将不透明遮盖图像油墨层施涂到所述释放性油墨层上。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 及其 生成 方法 存储器 资源 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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