[发明专利]用于涂覆光学基板的涂覆系统，其方法和被涂覆的光学基板有效
| 申请号： | 201780095798.4 | 申请日： | 2017-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN111201127B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | J·L·科埃尼格二世 | 申请（专利权）人： | 光学转变有限公司 |
| 主分类号： | B29D11/00 | 分类号： | B29D11/00;B41M3/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 张丹 |
| 地址： | 爱尔兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于涂覆光学基板的涂覆系统(10)，具有被配置用于识别光学基板的表面上的至少一个标记的朝向的识别装置(40)；被配置为通过雾化液滴形式的至少一种涂覆材料的受控沉积以预定图案将所述至少一种涂覆材料施加在光学基板的至少一部分上的涂覆装置(30)；以及被配置为将光学基板从识别装置(40)移动到涂覆装置(30)并基于所述至少一个标记的朝向将光学基板以相对于涂覆装置(30)的预定朝向定位的机器人放置臂(80)。涂覆系统(10)可以具有第二涂覆装置，诸如旋涂装置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 系统 方法 被涂覆 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于光学转变有限公司，未经光学转变有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780095798.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：流体特性传感器
- 下一篇：一种拍摄对焦方法、装置
