[发明专利]半导体装置用接合线在审

专利信息
申请号: 201780097315.4 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN111418047A 公开(公告)日: 2020-07-14
发明(设计)人: 小田大造;山田隆;江藤基稀;榛原照男;宇野智裕 申请(专利权)人: 日铁新材料股份有限公司;日铁化学材料株式会社
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 北京天达共和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11586 代理人: 张嵩;薛仑
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种半导体装置用的Pd被覆Cu接合线,其在半导体装置封装中使用的模塑树脂中的硫含量增大的情况下,也能在175℃以上的高温环境下充分地得到球接合部的接合可靠性。在具有Cu合金芯材和形成于所述Cu合金芯材的表面的Pd被覆层的半导体装置用接合线中,接合线中包含总计为0.03~2质量%的Ni、Rh、Ir、Pd中的1种以上,还包含总计为0.002~3质量%的Li、Sb、Fe、Cr、Co、Zn、Ca、Mg、Pt、Sc、Y中的1种以上。通过使用上述接合线,在半导体装置封装中使用的模塑树脂中的硫含量增大的情况下,也能在175℃以上的高温环境下充分地得到球接合部的接合可靠性。
搜索关键词: 半导体 装置 接合
【主权项】:
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