[发明专利]光刻胶涂覆方法及涂布机在审
| 申请号： | 201810002807.7 | 申请日： | 2018-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN108196431A | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | 刘文渠;董立文;党宁;张锋;王峰超;吕志军 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 杨广宇 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光刻胶涂覆方法及涂布机，属于显示技术领域。该方法包括：在基板的目标板面上喷涂预设溶剂，在喷涂有预设溶剂的目标板面的中央区域喷涂光刻胶；控制基板按照第一预设速度旋转第一时长，使光刻胶向目标板面的周边区域扩散。本发明有助于解决光刻胶涂覆的难度较大的问题，降低光刻胶涂覆的难度。本发明用于光刻胶涂覆。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻胶 涂覆 目标板 喷涂 预设 涂布机 溶剂 控制基板 中央区域 周边区域 基板 时长 扩散 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶涂覆方法，其特征在于，所述方法包括：在基板的目标板面上喷涂预设溶剂；在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶；控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长，使所述光刻胶向所述目标板面的周边区域扩散。
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