[发明专利]一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置有效
申请号: | 201810004294.3 | 申请日: | 2018-01-03 |
公开(公告)号: | CN108220412B | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 蔡佩芝;庞凤春;耿越;古乐;车春城 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C12Q1/6869 | 分类号: | C12Q1/6869 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种基因测序基板及其制备方法、基因测序装置,属于基因测序技术领域,其可解决现有的高通量测序芯片制作成本高的问题。本发明的基因测序基板是以塑性材料为衬底,在塑性的面上形成内凹结构作为反应池。由于衬底具有可塑性,这样可以采用简单的工艺形成内凹结构,降低基因测序基板的生产成本。同时,在内凹结构的内壁上增设第一保护层的作用是:保护塑性材料形成的内凹结构的内壁,防止内凹结构的内壁被反应液腐蚀。本发明的基因测序装置是通过将反应池、微流道、进样口和出样口等集成到第一基板和第二基板上从而对液体进行检测,其集成度非常高,所需的测试样品和反应试剂都非常少,然而其检测反应速度快,便于高通量测试等。 | ||
搜索关键词: | 一种 基因 测序基板 及其 制备 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种基因测序基板,其特征在于,包括由塑性材料形成的衬底,所述衬底的一面上设有内凹结构,所述内凹结构为基因测序的反应池;所述内凹结构的内壁上设有第一保护层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810004294.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。