[发明专利]横向绝缘栅双极晶体管及其制作方法在审
申请号: | 201810007205.0 | 申请日: | 2018-01-04 |
公开(公告)号: | CN110010678A | 公开(公告)日: | 2019-07-12 |
发明(设计)人: | 郭厚东 | 申请(专利权)人: | 中兴通讯股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/739 | 分类号: | H01L29/739;H01L29/06;H01L21/331 |
代理公司: | 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 | 代理人: | 江婷;李发兵 |
地址: | 518057 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种横向绝缘栅双极晶体管及其制作方法,通过在衬底上形成一层第一N埋层,并在第一N埋层上形成一层埋氧层,形成的埋氧层仅部分覆盖第一N埋层,然后在阳极使用重掺杂N区来阻止空穴注入衬底,同时在埋氧层下方设置的第一N埋层既能够充当第二条导电通道,减小通态压降,又与衬底相接触扩大了耗尽区,提高了击穿电压,第一N埋层在阴极端也与P体区构成了一个反偏PN结阻止了空穴的泄漏;且由于埋氧层并没有完全将衬底上方的漂移区与衬底隔离,因此工作产生的热量可以通过衬底散发出去,降低自热效应,提升散热效率,同时可以利用衬底承压,可进一步提高击穿电压。 | ||
搜索关键词: | 衬底 埋氧层 横向绝缘栅双极晶体管 空穴 击穿电压 导电通道 散热效率 通态压降 自热效应 阳极 耗尽区 漂移区 阴极端 重掺杂 承压 反偏 减小 制作 泄漏 隔离 散发 覆盖 | ||
【主权项】:
1.一种横向绝缘栅双极晶体管,包括:衬底,形成于所述衬底上的第一N埋层,形成于所述第一N埋层上将所述第一N埋层部分覆盖的埋氧层,形成于所述埋氧层之上的漂移区,形成于所述漂移区左侧的阴极P体区,以及形成于所述漂移区右上侧的阳极N缓冲区,所述阴极P体区的下端与所述埋氧层接触,且所述阴极P体区的底部直接与所述第一N埋层的上表面接触形成反偏PN结;还包括在所述阴极P体区内从左往右依次形成的阴极P+区以及第一阴极N+区,在所述阳极N缓冲区内形成的阳极P+区,阳还包括设置在所述阴极P+区上表面和第一阴极N+区的部分上表面的阴极,设置在所述第一阴极N+区右侧上表面、阴极P体区的上表面和漂移区部分上表面部分的第一栅极,以及设置在所述阳极P+区的上表面的阳极;还包括竖跨所述阳极N缓冲区设置的阳极重掺杂N+区,所述阳极重掺杂N+区上端与所述阳极接触,下端与所述埋氧层和所述第一N埋层接触。
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