[发明专利]大口径圆台形靶材的高真空电弧稳弧装置及溅射方法有效
申请号: | 201810008801.0 | 申请日: | 2018-01-04 |
公开(公告)号: | CN108193174B | 公开(公告)日: | 2019-09-24 |
发明(设计)人: | 叶伟 | 申请(专利权)人: | 陕西理工大学 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 谈耀文 |
地址: | 723001 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开的大口径圆台形靶材的高真空电弧稳弧装置,包括阴极靶、屏蔽板、永久磁铁、聚焦线圈、固定装置和弧电源,固定装置中部竖直固定有靶座,靶座外壁上还安装有屏蔽板支撑基座,屏蔽板支撑基座下面连接有屏蔽板,屏蔽板为圆环形且内部中空,阴极靶为圆台形、上端面开设有一圆柱形凹槽,凹槽内设置有永久磁铁,阴极靶穿过屏蔽板中心安装在靶座上,固定装置的两端向下竖直方向固定有聚焦筒,聚焦筒外壁上均匀缠绕着聚焦线圈,弧电源正、负极分别连接到屏蔽板和阴极靶,溅射时阴极靶的侧面和小端面同时发生弧光放电,均匀溅射出阴极靶材离子,本发明所设计的稳弧装置具有结构简单、镀膜质量高、电弧弧斑稳定性好、工作效率高、易于控制的优点。 | ||
搜索关键词: | 屏蔽板 阴极靶 电弧 固定装置 稳弧装置 圆台形 靶座 溅射 聚焦线圈 永久磁铁 支撑基座 大口径 高真空 弧电源 聚焦筒 靶材 外壁 工作效率高 圆柱形凹槽 负极 弧光放电 均匀缠绕 内部中空 竖直固定 阴极靶材 中心安装 上端面 小端面 圆环形 镀膜 弧斑 竖直 离子 穿过 侧面 | ||
【主权项】:
1.大口径圆台形靶材的高真空电弧稳弧装置,其特征在于,包括阴极靶(4)、固定装置(8)、屏蔽板(3)、永久磁铁(2)、聚焦线圈(10)和弧电源(5),所述固定装置(8)中部竖直固定有靶座(7),所述靶座(7)外壁上还安装有屏蔽板支撑基座(11),所述屏蔽板支撑基座(11)下面连接有屏蔽板(3),所述屏蔽板(3)为圆环形且内部中空,所述阴极靶(4)为圆台形,上端面直径大于下端面直径,所述阴极靶(4)上端面开设有一圆柱形凹槽,所述凹槽内设置有一内部中空的圆环形支撑架(1),所述支撑架(1)中心内设置有永久磁铁(2),所述阴极靶(4)穿过屏蔽板(3)中心安装在靶座(7)上,所述固定装置(8)的两端向下竖直方向固定有聚焦筒(9),所述聚焦筒(9)外壁上均匀缠绕着聚焦线圈(10),所述弧电源(5)负极连接于阴极靶(4),正极分别连接于真空室(6)和屏蔽板(3),所述靶座(7)下端接近阴极靶(4)处还设置有一密封胶圈(13)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陕西理工大学,未经陕西理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810008801.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类