[发明专利]包含聚对羟基苯乙烯类氧杂环丁烷树脂作为成膜树脂的光刻胶组合物

摘要

本发明涉及一种包含式(I)聚合物作为成膜树脂的光刻胶组合物，其中R_a‑R_d、R和n如说明书中所定义。光刻胶组合物包含的成膜聚合物当用作光刻胶的成膜树脂时具有紫外光透过性好、粘度大可形成厚膜、光固化彻底、分辨率高等优点。本发明的光刻胶是一种可应用于先进封装技术和MEMS制造的负性厚膜光刻胶，根据需要其膜厚一次匀胶甩片可达20‑100微米，分辨率的独立线宽范围5微米以上，感度(以20μm膜厚计)50‑80mJ/cm^‑2。

主权项

1.一种光刻胶组合物，包含如下组分：(A)作为成膜树脂的下式(I)的聚合物：其中：R_a‑R_d各自独立地为选自H、卤素、C₁‑C₆烷基、卤代C₁‑C₆烷基、C₁‑C₆烷氧基、卤代C₁‑C₆烷氧基、C₃‑C₁₂环烷基、卤代C₃‑C₁₂环烷基、C₃‑C₁₂环烷基C₁‑C₂烷基、卤代C₃‑C₁₂环烷基C₁‑C₂烷基和苄基的基团；R选自H、卤素、C₁‑C₆烷基、卤代C₁‑C₆烷基、C₁‑C₆羟烷基、C₁‑C₆烷氧基、卤代C₁‑C₆烷氧基、C₃‑C₁₂环烷基、环氧乙烷基、环氧丙烷基、C₃‑C₁₂环烷基C₁‑C₂烷基、苯基C₁‑C₂烷基和氧杂环丁烷基氧基，其中前述C₃‑C₁₂环烷基、环氧乙烷基、环氧丙烷基、C₃‑C₁₂环烷基C₁‑C₂烷基中的C₃‑C₁₂环烷基、苯基C₁‑C₂烷基中的苯基、氧杂环丁烷基氧基中的氧杂环丁烷基可任选地被一个或多个选自卤素、C₁‑C₆烷基、卤代C₁‑C₆烷基、C₁‑C₆烷氧基和卤代C₁‑C₆烷氧基的取代基取代；以及n为2‑40的整数，(B)光引发剂；(C)溶剂，该溶剂为选自下组中的一种或多种：邻二甲苯、间二甲苯、对二甲苯、苯甲醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、醋酸丁酯、醋酸新戊酯、乳酸乙酯、γ‑丁内酯、N‑甲基吡咯烷酮、N‑乙基吡咯烷酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮；(D)任选地，正丁胺；以及(E)任选地，表面活性剂。