[发明专利]一种防着板及其清洁方法以及薄膜沉积设备在审
申请号: | 201810011108.9 | 申请日: | 2018-01-05 |
公开(公告)号: | CN108149212A | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 张俊涛;古龙云;刘勃;王勇;陈川;殷天兰;王海文;戴阳;李杨 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/14 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 张雪梅 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种防着板及其清洁方法以及薄膜沉积设备,包括:基板,以及贴附于所述基板上的多层可逐层剥离的承载膜。工作时最上层的承载膜上在沉积工艺条件下形成工艺膜。当工艺膜叠加的厚度达到设定的阈值时,将承载膜连带工艺膜从防着板表面剥离。本发明提供的防着板,实现了防着板寿命的大幅延长,可以极大程度改善hillock,提高相关领域产品的产能及良品率;同时可以节省巨额防着板清洗费用。 | ||
搜索关键词: | 防着板 承载膜 工艺膜 薄膜沉积设备 基板 剥离 沉积工艺条件 领域产品 清洁 良品率 最上层 阈值时 产能 多层 连带 贴附 叠加 清洗 | ||
【主权项】:
一种防着板,其特征在于,包括:基板,以及贴附于所述基板上的多层可剥离承载膜。
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