[发明专利]一种测定四氟化硅气体中杂质磷、硼、砷含量的方法在审
| 申请号： | 201810012631.3 | 申请日： | 2018-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN107957415A | 公开（公告）日： | 2018-04-24 |
| 发明（设计）人： | 唐安江;张丹辉;韦德举;黄崇;张妙鹤;蒋东海;魏娴;唐石云;仇伟;吴承燕 | 申请（专利权）人： | 贵州理工学院 |
| 主分类号： | G01N21/73 | 分类号： | G01N21/73 |
| 代理公司： | 贵阳中新专利商标事务所52100 | 代理人： | 刘艳 |
| 地址： | 550003 *** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种测定四氟化硅气体中杂质磷、硼、砷含量的方法，其特征在于包括如下步骤；配制NaOH吸收液；将经浓硫酸吸收、含有沸石的浓硫酸吸收、浓硫酸吸收、浓硫酸吸收净化后的SiF4通入盛装前述NaOH吸收液的吸收瓶；控制SiF4气体的吸收量得到测试样品，并测定吸收的SiF4气体重量；用电感耦合等离子体原子发射光谱法分析气体中的磷、硼、砷含量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 测定 氟化 气体 杂质 含量 方法 | ||
【主权项】：
一种测定四氟化硅气体中杂质磷、硼、砷含量的方法，其特征在于：包括如下步骤；配制NaOH吸收液；将经浓硫酸吸收、含有沸石的浓硫酸吸收、浓硫酸吸收、浓硫酸吸收净化后的SiF4通入盛装前述NaOH吸收液的吸收瓶；控制SiF4气体的吸收量得到测试样品，并测定吸收的SiF4气体重量；用电感耦合等离子体原子发射光谱法分析气体中的磷、硼、砷含量。
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