[发明专利]一种薄膜靶带及制备方法有效
| 申请号： | 201810015078.9 | 申请日： | 2018-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN110015938B | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 蔡建;贾少霞;焦龙;杨景华;金婷;刘芳芳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | C06B31/32 | 分类号： | C06B31/32;C06B31/12;C06B29/16;C06B29/00 |
| 代理公司： | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人： | 房德权 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种薄膜靶带及薄膜靶带的制备方法，该薄膜靶带包括：基底和激光烧蚀层，所述激光烧蚀层由高分子含能工质、光吸收剂、强氧化剂、添加剂混合后附着在所述基底上形成。由于薄膜靶带的激光烧蚀层中添加了强氧化剂成分，在薄膜靶带设置在激光推进器上时，可以促进激光与激光烧蚀层材料发生充分化学反应，形成气态产物，充分释放并增强化学能，提高激光推进器的推进效率，消除未完全化学反应生成的烟，减少对卫星太阳能帆板、光学器件等形成污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜靶带，其特征在于，包括：基底；激光烧蚀层，所述激光烧蚀层由高分子含能工质、光吸收剂、强氧化剂、添加剂混合后附着在所述基底上形成。
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