[发明专利]一种基于全相位预处理的MVDR波束形成方法有效

专利信息
申请号: 201810018101.X 申请日: 2018-01-09
公开(公告)号: CN110018465B 公开(公告)日: 2020-11-06
发明(设计)人: 郑恩明;陈新华;李媛;宋春楠 申请(专利权)人: 中国科学院声学研究所
主分类号: G01S7/537 分类号: G01S7/537;G01S15/88
代理公司: 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 代理人: 陈琳琳;张红生
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于全相位预处理的MVDR波束形成方法,包括:根据线列阵接收数据中信号和噪声相关性的差异,将线列阵中2N‑1个阵元接收数据通过全相位预处理转变为N个阵元数据;然后对N个阵元数据进行处理,得到基于全相位预处理的MVDR波束输出。本发明方法对线列阵接收数据进行了全相位预处理,有效提高线列阵接收数据协方差矩阵中信号含有量和信噪比,降低了背景噪声和旁瓣级对MVDR波束形成检测弱目标带来的影响,提高了MVDR波束形成对弱目标检测的检测效果。
搜索关键词: 一种 基于 相位 预处理 mvdr 波束 形成 方法
【主权项】:
1.一种基于全相位预处理的MVDR波束形成方法,包括:根据线列阵接收数据中信号和噪声相关性的差异,将线列阵中2N‑1个阵元接收数据通过全相位预处理转变为N个阵元数据;然后对N个阵元数据进行处理,得到基于全相位预处理的MVDR波束输出。
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