[发明专利]TFT基板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201810020340.9 申请日: 2018-01-09
公开(公告)号: CN108257976B 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 高玲 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84;G02F1/1362
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人: 林才桂
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种TFT基板及其制作方法。该TFT基板包括:衬底基板、设于所述衬底基板的金属层、设于所述衬底基板和金属层上的绝缘层、设于所述绝缘层上的底公共电极以及设于所述绝缘层和底公共电极上的保护层;所述绝缘层具有暴露出金属层的第一过孔;所述底公共电极对应第一过孔的区域形成有第二过孔;所述底公共电极靠近第二过孔的边缘的厚度沿靠近第二过孔的方向逐渐减小,从而减小底公共电极靠近第二过孔的边缘的翘起角度,降低底切现象的发生几率,进而降低形成于底公共电极上的膜层出现剥离的风险,提高TFT基板的良率,使得液晶面板显示效果良好。
搜索关键词: tft 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种TFT基板,其特征在于,包括:衬底基板(10)、设于所述衬底基板(10)的金属层(20)、设于所述衬底基板(10)和金属层(20)上的绝缘层(30)、设于所述绝缘层(30)上的底公共电极(40)以及设于所述底公共电极(40)上的保护层(50);所述绝缘层(30)具有暴露出金属层(20)的第一过孔(31);所述底公共电极(40)对应第一过孔(31)的区域形成有第二过孔(41);所述底公共电极(40)的边缘的厚度沿靠近第二过孔(41)的方向逐渐减小。
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