[发明专利]像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置有效
| 申请号： | 201810022880.0 | 申请日： | 2018-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN108198845B | 公开（公告）日： | 2021-01-26 |
| 发明（设计）人： | 姜博;朱海彬;靳倩 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/32 | 分类号： | H01L27/32;H01L21/77;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;王卫忠 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供一种像素界定层及制备方法、显示基板及制备方法、显示装置。该像素界定层的制备方法包括：在基板上形成一层前驱溶液，其中所述前驱溶液包括有机材料和无机材料，且所述有机材料的密度小于所述无机材料的密度；对所述前驱溶液进行预固化处理，形成无机材料层和位于所述无机材料层顶部的有机材料层；对所述无机材料层和所述有机材料层进行构图工艺，形成像素界定层。本公开可以通过包括有机材料和无机材料、且该有机材料的密度小于该无机材料的密度的前驱溶液，在该前驱溶液的预固化过程中，该无机材料沉积到底部而该有机材料上浮到该无机材料顶部，从而可以通过一次成膜和一次构图工艺形成该像素界定层。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 界定 制备 方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种像素界定层的制备方法，其特征在于，包括：在基板上形成一层前驱溶液，其中所述前驱溶液包括有机材料和无机材料，且所述有机材料的密度小于所述无机材料的密度；对所述前驱溶液进行预固化处理，形成无机材料层和位于所述无机材料层顶部的有机材料层；对所述无机材料层和所述有机材料层进行构图工艺，形成像素界定层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
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