[发明专利]一种西红柿的种植方法

摘要

本发明提供一种西红柿的种植方法，种子预处理，整土施肥，播种，移栽定植，田间管理，搭支架，修剪枝节七大步骤，种子施加超声及电磁场，超声波对种子表面冲击使细胞膜、壁的通透性发生变化，细胞与外界进行物质交换，超声伴随的能量作用于细胞内的过氧化氢酶、α‑淀粉酶，增强了酶的活性，在电磁场下，细胞内被增强的过氧化氢酶分解过氧化氢速率骤升，分解的水和氧气促使细胞内的呼吸作用加快，活化性能加强后的α‑淀粉酶在水解α‑1,4‑糖苷键产生的低聚糖，在电磁场的影响下迅速水解成单糖等，蛋白质快速水解，加快种子内生理反应开始，迅速形成胚根出现胚芽，这种技术方案缩短种子发芽时间，提高种子发芽率，保证了种子育种速度和效率。

主权项

1.一种西红柿的种植方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)种子预处理：用30％代森铵300倍液，水温在50℃左右，浸泡20min，取出后放清水中浸泡并用超声波对种子超声，超声结束后取出晾干的过程对种子施加电磁场；(2)整土施肥：施撒基肥，旋耕垄地，作畦通沟；(3)播种：播种，覆土，洒水，盖膜；(4)移栽定植：待幼苗长生出4～5片真叶移栽至4～7cm深的土穴中，定植后覆土浇水；(5)田间管理：移栽定植5～8d后，喷洒40％氟乐灵1000倍液30L和10％吡虫啉500倍液25L，距幼苗7～10cm处开穴第一次追肥，覆土后浇水；定植15～20d后，疏松表层6～8cm的土；定植27～35d后，喷洒40％氟乐灵1000倍液30L，施洒稀释的农家肥200kg；定植40～50d，距根部7～10cm处开穴第二次追肥，覆土后浇水；(6)搭支架：待幼苗长至40～50cm时，在距离西红柿根部10～15cm处插80cm～100cm高的支架，将西红柿苗绑定在支架上；(7)修剪枝节：开花生果后的3～5d，剪掉枯枝、残枝、多余触地枝，未开花生果的侧枝；(8)采收。