[发明专利]一种脉冲激光沉积装置及其方法

摘要

本申请实施例提供了一种脉冲激光沉积装置，所述装置包括：腔室，所述腔室设有两个石英窗口，所述腔室包括；可旋转靶材，所述可旋转靶材设置于所述腔室内部；衬底，所述衬底设置于所述腔室内部，所述衬底与所述可旋转靶材相对设置；第一激光，所述第一激光从所述腔室外部通过所述石英窗口，入射至所述可旋转靶材的上表面；第二激光，所述第二激光从所述腔室外部通过所述石英窗口，入射至所述可旋转靶材的上表面；解决现有脉冲激光沉积系统成膜过程中，等离子体组分波动大，易于出现大颗粒，导致薄膜中容易出现杂质颗粒影响结晶性能的问题，达到了提高薄膜的结晶性能和均匀性，减少薄膜中的杂质颗粒，制备出高质量的薄膜的技术效果。

主权项

1.一种脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述装置包括：腔室，所述腔室设有两个石英窗口，所述腔室包括；可旋转靶材，所述可旋转靶材设置于所述腔室内部；衬底，所述衬底设置于所述腔室内部，所述衬底与所述可旋转靶材相对设置；第一激光，所述第一激光从所述腔室外部通过所述石英窗口，入射至所述可旋转靶材的上表面；第二激光，所述第二激光从所述腔室外部通过所述石英窗口，入射至所述可旋转靶材的上表面；其中，所述第一激光和所述第二激光通过同一个所述石英窗口入射至所述可旋转靶材的上表面，或者所述第一激光和所述第二激光分别通过两个所述石英窗口入射至所述可旋转靶材的上表面。