[发明专利]少层MoS2

摘要

本发明公开了一种少层MoS2修饰Ag‑TiO2纳米复合薄膜的制备方法，方法的步骤中含有：(a)制备TiO2纳米薄膜；(b)制备Ag‑TiO2纳米复合薄膜；(c)制备少层MoS2修饰Ag‑TiO2纳米复合薄膜：对得到的Ag‑TiO2纳米复合薄膜进行紫外光照处理，处理结束后，然后至少进行二次少层MoS2修饰步骤，得到少层MoS2修饰Ag‑TiO2纳米复合薄膜；其中，每次少层MoS2修饰步骤中包括：在Ag‑TiO2纳米复合薄膜表面滴适量少层MoS2分散液，待少层MoS2分散液润湿Ag‑TiO2纳米复合薄膜表面后，将少层MoS2分散液均匀涂覆于Ag‑TiO2纳米复合薄膜表面，然后烘干处理。该方法制备过程简单，原材料成本相对较低，无毒，并且利用少层MoS2和Ag纳米颗粒的协同作用使得该薄膜具有较高的可见光催化降解效率，而且制备得到的薄膜易于回收和重复利用。

主权项

1.一种少层MoS2修饰Ag‑TiO2纳米复合薄膜的制备方法，其特征在于方法的步骤中含有：(a)制备TiO2纳米薄膜；(b)制备Ag‑TiO2纳米复合薄膜：在TiO2纳米薄膜表面负载Ag纳米颗粒，然后烘干得到Ag‑TiO2纳米复合薄膜；(c)制备少层MoS2修饰Ag‑TiO2纳米复合薄膜：对得到的Ag‑TiO2纳米复合薄膜进行紫外光照处理，处理结束后，然后至少进行二次少层MoS2修饰步骤，得到少层MoS2修饰Ag‑TiO2纳米复合薄膜；其中，每次少层MoS2修饰步骤中包括：在Ag‑TiO2纳米复合薄膜表面滴适量少层MoS2分散液，待少层MoS2分散液润湿Ag‑TiO2纳米复合薄膜表面后，将少层MoS2分散液均匀涂覆于Ag‑TiO2纳米复合薄膜表面，然后烘干处理。