[发明专利]超级结肖特基二极管与其制作方法有效

专利信息
申请号: 201810032255.4 申请日: 2018-01-12
公开(公告)号: CN108336129B 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 董升旭;白云;田晓丽;汤益丹;杨成樾;陈宏;王臻星;刘新宇 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/872;H01L21/329
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 韩建伟;谢湘宁
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请提供了一种超级结肖特基二极管与其制作方法。该超级结肖特基二极管包括:N+型衬底;N型外延层,设置在N+型衬底的表面上,N型外延层中具有依次叠置设置的P区和P+区,P+区的远离P区的表面为N型外延层的部分表面;正面金属层,设置在N型外延层的远离N+型衬底的至少部分表面上,以使正面金属层与N型外延层形成肖特基结。该超级结肖特基二极管的反向击穿电压较大,能够应用于高压领域中。
搜索关键词: 超级 结肖特基 二极管 与其 制作方法
【主权项】:
1.一种超级结肖特基二极管,其特征在于,所述超级结肖特基二极管包括多个元胞结构,各所述元胞结构包括:N+型衬底(20);N型外延层(30),设置在所述N+型衬底(20)的表面上,所述N型外延层(30)中具有依次叠置设置的P区(31)和P+区(32),所述P+区(32)的远离所述P区(31)的表面为所述N型外延层(30)的部分表面;以及正面金属层(40),设置在所述N型外延层(30)的远离所述N+型衬底(20)的至少部分表面上,以使所述正面金属层(40)与所述N型外延层(30)形成肖特基结。
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