[发明专利]茚并吡咯噻吩类光敏染料的制备及用途在审
| 申请号： | 201810033533.8 | 申请日： | 2018-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN108373600A | 公开（公告）日： | 2018-08-07 |
| 发明（设计）人： | 梁茂;程华;薛松;孙喆;陈瑜;王旭达 | 申请（专利权）人： | 天津理工大学 |
| 主分类号： | C09B23/04 | 分类号： | C09B23/04;H01G9/20 |
| 代理公司： | 天津耀达律师事务所 12223 | 代理人： | 廖晓荣 |
| 地址： | 300384 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种茚并吡咯噻吩类光敏染料的制备及用途,所说的茚并吡咯噻吩类光敏染料，其具有式(I)所示结构： |
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| 搜索关键词： | 式( I ) 光敏染料 茚并吡咯 制备 染料敏化太阳能电池 光电转换效率 电荷传输能力 光电转换性能 光敏化剂 供电性 染料 产率 光强 烃基 照射 电池 合成 | ||
【主权项】：
1.一种茚并吡咯噻吩类光敏染料，其特征在于，具有式(I)的化学结构：![]()
式(I)中：R1，R2为C1～C12烃基。
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