[发明专利]共注射热流道喷嘴有效
申请号: | 201810034517.0 | 申请日: | 2018-01-15 |
公开(公告)号: | CN108454023B | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 阿卜杜斯拉姆·布第;哈基穆丁·博克斯瓦拉;内森·盖布里埃尔·索思威克;马切伊·布雷斯基;迪特马·铁莫·布兰德;亚当·克里斯托弗·乌莱梅克;德克·霍格尔·施卢姆斯 | 申请(专利权)人: | 赫斯基注塑系统有限公司 |
主分类号: | B29C45/27 | 分类号: | B29C45/27 |
代理公司: | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人: | 贾博雍;吴兰柱 |
地址: | 加拿大,*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 共注射热流道喷嘴包括内熔体流通道以及围绕着内熔体流通道的环形外熔体流通道。内熔体流通道和外熔体流通道具有第一公共源。喷嘴进一步包括设置在内熔体流通道与外熔体流通道之间的环形中间熔体流通道。环形中间熔体流通道至少部分由多个螺旋凹槽限定,其中各螺旋凹槽具有相应入口并限定螺旋形流路。相邻的螺旋凹槽之间的槽岸的间隙沿着下游方向增大。环形轴向流路限定在槽岸上方。具有第二公共源的多个供料通道被配置成将熔体供给至螺旋凹槽的多个入口。供料通道与螺旋凹槽之间可存在有1:1的关系。入口可为纵向通道。 | ||
搜索关键词: | 注射 热流 喷嘴 | ||
【主权项】:
1.一种共注射热流道喷嘴,其包括:内熔体流通道;围绕着所述内熔体流通道的环形外熔体流通道,其中所述内熔体流通道和所述外熔体流通道具有第一公共源;环形中间熔体流通道,所述环形中间熔体流通道设置在所述内熔体流通道与所述外熔体流通道之间,并至少部分由多个螺旋凹槽限定,其中各螺旋凹槽具有相应入口并限定螺旋形流路,其中相邻的螺旋凹槽之间具有间隙沿着下游方向增大的槽岸,其中环形轴向流路限定在所述槽岸上方;以及多个供料通道,所述多个供料通道用于将熔体供给至所述螺旋凹槽的所述多个入口,其中所述多个供料通道具有第二公共源。
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