[发明专利]一种含咪唑离子的光固化单体及其在自修复光固化材料中的应用

摘要

说明书摘要本发明合成了一种含咪唑离子的光固化单体及其在自修复光固化材料中的应用，其合成包括以下步骤：将双官能度的丙烯酸酯、咪唑和有机碱加入反应釜中，得到中间产物1；产物1与卤代烷反应，得到含咪唑离子的光固化单体。含咪唑离子的光固化单体与其它光固化单体及光引发剂在紫外光作用下，得到自修复光固化材料。发明的有益效果是：（1）所合成的含咪唑离子的光固化单体具有良好的光固化活性，可在紫外光作用下快速固化；（2）所合成的含咪唑离子的光固化单体与其它光固化单体中具有良好的相容性，可以通过改变该单体与其它光固化单体添加比例调节材料的性能；（3）所合成的含咪唑离子的光固化单体能够赋予光固化材料自修复性能，有效地提高光固化材料的安全性，延长光固化材料的使用寿命，减少环境污染。

主权项

1.一种通式为(I)的含咪唑离子的光固化单体：R1、R2和R3相同或相异，并独立地选自氢原子、C1‑12烷基、C1‑12烷氧基、C2‑12链烯基、卤素原子、氰基、C6‑10芳基、C6‑10芳氧基、C6‑10芳烷氧基、C8‑12芳基链烯基、C3‑8环烷基、羧基、羧基C1‑12烷基酯基、羧基聚(C1‑4)烷撑二醇醚酯基、C2‑7羧基烷氧基、C1‑12烷基酯基、C2‑7羧基烷氧基聚(C1‑4)烷撑二醇醚酯基；R₄和R₈相同或相异，并独立地选自其中m的取值范围可以是1～20，优选1～6；n的取值范围可以是1～15，优选1～8；R₉和R₁₀相同或相异，并独立的选自H、C_1‑12的烷基、C_1‑12的烷氧基；R5、R6和R7相同或相异，并独立地选自氢原子、C1‑4烷基、C1‑4烷氧基或卤素；A、B相同或相异，并独立地选自R₁₁为H、C_1‑12的烷基或C_1‑12的烷氧基；Z为氢原子、‑OH、‑COOH、‑NH2、‑Ar、‑NO2、‑CN；X‑为阴离子基团，选自氯离子、溴离子、碘离子、硝酸根离子、亚硫酸根离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、对甲苯磺酸根离子、苯磺酸根离子、十二烷基磺酸根离子、三氟甲磺酸根离子、四苯硼酸根离子、异氰酸根离子、C1‑12烷基羧酸根离子、三氟乙酸根离子、双三氟甲磺酸亚胺离子。