[发明专利]一种光学腔体、光学系统及显示装置在审
| 申请号： | 201810043445.6 | 申请日： | 2018-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN108279505A | 公开（公告）日： | 2018-07-13 |
| 发明（设计）人： | 梁菲;孙凌宇;陈秀云;杜景军 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G02B6/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光学腔体、光学系统及显示装置，包括：光路调整元件和多个侧壁；其中，多个侧壁包括第一侧壁，第一侧壁设置有至少一个开口；光路调整元件与第一侧壁连接，且光路调整元件在第一侧壁所在平面上的正投影至少部分位于开口所在区域内；多个侧壁用于将入射至光学腔体中的光线反射至光路调整元件，光路调整元件用于将经过多个侧壁反射的光线均匀出射。由于多个侧壁可将入射至光学腔体中的光线反射至光路调整元件，并经光路调整元件进行均匀出射，因此，在实际应用过程中，在光源为光学腔体提供入射光线时，光学腔体即可将光源提供的入射光线均匀出射，从而可为导光板提供均匀的光线，进而可有效改善导光板上亮暗不均的现象。 | ||
| 搜索关键词： | 光路调整 光学腔体 侧壁 第一侧壁 出射 光线反射 光学系统 入射光线 显示装置 导光板 入射 开口 光线均匀 光源提供 所在平面 所在区域 应用过程 正投影 反射 光源 | ||
【主权项】：
1.一种光学腔体，其特征在于，包括：光路调整元件和多个侧壁；其中，所述多个侧壁包括第一侧壁，所述第一侧壁设置有至少一个开口；所述光路调整元件与所述第一侧壁连接，且所述光路调整元件在所述第一侧壁所在平面上的正投影至少部分位于所述开口所在区域内；所述多个侧壁用于将入射至所述光学腔体中的光线反射至所述光路调整元件，所述光路调整元件用于将经过所述多个侧壁反射的光线均匀出射。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810043445.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种医疗放射科用阅片装置
- 下一篇：一种飞秒激光光束调控系统
