[发明专利]含有自建半导体二极管的三维纵向多次编程存储器在审

专利信息
申请号: 201810045340.4 申请日: 2018-01-17
公开(公告)号: CN110047868A 公开(公告)日: 2019-07-23
发明(设计)人: 张国飙 申请(专利权)人: 杭州海存信息技术有限公司
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L45/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310051*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提出一种含有自建半导体二极管的三维纵向多次编程存储器(3D‑MTPV)。它含有多个相互垂直堆叠的水平地址线,多个穿透水平地址线的存储井,一层覆盖存储井边墙的编程膜,多条形成在存储井中的竖直地址线。存储井中不含单独的二极管膜。水平地址线和竖直地址线含有不同掺杂类型的半导体材料,二极管在它们交叉处自然形成。
搜索关键词: 水平地址 半导体二极管 二极管 存储器 存储 多次编程 地址线 井中 竖直 三维 半导体材料 掺杂类型 垂直堆叠 覆盖存储 自然形成 交叉处 边墙 编程 穿透
【主权项】:
1.一种三维纵向多次编程存储器(3D‑MTPV),其特征还在于含有:一含有一衬底电路(0K)的半导体衬底(0);多层处于该衬底电路(0K)上并垂直堆叠的水平地址线(8a‑8h),该水平地址线(8a‑8h)含有第一半导体材料;多个穿透所述多层水平地址线(8a‑8h)的存储井(2a);一层覆盖该多个存储井(2a)边墙的编程膜(6a),在编程时其电阻可从高电阻态转变为低电阻、或从低电阻转变成高电阻;多条位于该多条存储井(2a)中的竖直地址线(4a),该竖直地址线(4a)含有第二半导体材料;多个形成在该水平地址线(8a‑8h) 与该竖直地址线(4a)交叉处的MTP存储元(1aa‑1ha);所述第一和第二半导体材料掺杂类型不同。
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