[发明专利]一种有机发光显示面板及其制备方法

摘要

本发明实施例公开了一种有机发光显示面板及其制备方法，有机发光显示面板的制备方法包括：提供一衬底基板；在衬底基板一侧制备多个独立设置的第一子电极，相邻两个所述第一子电极之间形成间隙位置，间隙位置填充有绝缘层，间隙位置包括第一间隙位置和第二间隙位置，相邻两个第二间隙位置之间包括至少一个第一间隙位置；在第二间隙位置处制备像素定义层，相邻两个像素定义层之间形成有机发光显示区域；在有机发光显示区域制备同一类型有机发光层；在有机发光显层和像素定义层远离所述衬底基板的一侧制备第二电极。综上，在保证现有有机发光显示面板中有机发光层制备工艺不变的情况下，提升有机发光显示面板的像素分辨率。 1

主权项

1.一种有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板一侧制备多个独立设置的第一子电极，相邻两个所述第一子电极之间形成间隙位置，所述间隙位置填充有绝缘层；所述间隙位置包括第一间隙位置和第二间隙位置，相邻两个所述第二间隙位置之间包括至少一个所述第一间隙位置；

在所述第二间隙位置处制备像素定义层，相邻两个所述像素定义层之间形成有机发光显示区域；

在所述有机发光显示区域制备同一类型有机发光层；

在所述有机发光显层和所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧制备第二电极。

2.根据权利要求1所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，在所述衬底基板一侧制备多个独立设置的第一子电极，相邻两个所述第一子电极之间形成间隙位置，所述间隙位置填充有绝缘层，包括：

在所述衬底基板一侧制备第一电极；

对所述第一电极进行图案化处理，得到多个独立设置的第一子电极，相邻两个所述第一子电极之间形成间隙位置；

在所述间隙位置填充绝缘层。

3.根据权利要求2所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，对所述第一电极进行图案化处理，得到多个独立设置的第一子电极，相邻两个所述第一子电极之间形成间隙位置，包括：

在所述第一电极远离所述衬底基板的一侧制备光刻胶层；

对所述光刻胶层进行图案化处理，得到光刻胶保留区域和光刻胶剥离区域，所述光刻胶剥离区域暴露所述第一电极；

对所述光刻胶暴露区域对应的所述第一电极进行刻蚀，并去除所述光刻胶保留区域遗留的所述光刻胶层，得到多个独立设置的第一子电极，相邻两个所述第一子电极之间形成间隙位置。

4.根据权利要求2所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，在所述间隙位置填充绝缘层，包括：

在所述第一子电极远离所述衬底基板的一侧和所述间隙位置处制备绝缘层；

去除所述第一子电极远离所述衬底基板一侧的所述绝缘层，所述绝缘层填充于所述间隙位置处。

5.根据权利要求4所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，在所述第一子电极远离所述衬底基板的一侧和所述间隙位置处制备绝缘层，包括：

使用等离子体增强化学的气相沉积，溅射以及原子层沉积中的至少一种，在所述第一子电极远离所述衬底基板的一侧和所述间隙位置处制备绝缘层。

6.根据权利要求4所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，去除所述第一子电极远离所述衬底基板一侧的所述绝缘层，包括：

使用化学机械抛光工艺对所述第一子电极远离所述衬底基板一侧的所述绝缘层进行减薄处理；

使用化学漂洗方法对减薄处理之后剩余的所述绝缘层进行漂洗，完全去除所述第一子电极远离所述衬底基板一侧的所述绝缘层。

7.根据权利要求1所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，所述绝缘层包括SiO₂、SiN_X，A1₂O₃、MgO、ZnO、NiO、AlN中的至少一种。

8.根据权利要求6所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，使用化学机械抛光工艺对所述第一子电极远离所述衬底基板一侧的所述绝缘层进行减薄处理时，抛光液包括SiO₂，Ce₂O，ZrO₂等磨粒以及KOH和NH₂OH添加物。

9.根据权利要求1所述的有机发光显示面板的制备方法，其特征在于，在所述有机发光显示区域制备同一类型有机发光层，包括：

采用喷墨打印的方式，在所述有机发光显示区域制备同一类型有机发光层。

10.一种有机发光显示面板，其特征在于，采用权利要求1‑9任一项所述的有机发光显示面板的制备方法制备得到，包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板一侧的多个独立设置的第一子电极，相邻两个所述第一子电极之间形成间隙位置，所述间隙位置填充有绝缘层；所述间隙位置包括第一间隙位置和第二间隙位置，相邻两个所述第二间隙位置之间包括至少一个所述第一间隙位置；

位于所述第二间隙位置处的像素定义层，相邻两个所述像素定义层之间形成有机发光显示区域；

位于所述有机发光显示区域的同一类型的有机发光层；

位于所述有机发光显层和所述像素定义层远离所述衬底基板的一侧的第二电极。