[发明专利]具有梳型结构阴离子型高分子表面活性剂及其制备方法

摘要

本发明公开了一种具有梳型结构阴离子型高分子表面活性剂，所述梳型结构阴离子型高分子表面活性剂为烷氧基化低聚十五烯(烷)基间酚酯，至少包括如下结构式的成分：本发明制备工艺流程短，可操作性强，其通过对十五烯(烷)基间酚进行缩聚反应和烷基化反应得到烷氧基化十五烯(烷)基间酚低聚体，再对其进行阴离子改性得到具有梳型结构阴离子型高分子表面活性剂，所得产品的固含量高，粘度高，集乳化及增稠性能于一体，表观性能稳定，其疏水主链上连着许多聚氧乙烯醚支链，分子量大小可调，对分散微粒表面具有良好的覆盖及包封效果，在水性色浆分散、农药原药乳化、造纸、纺织印染、废水处理及原油开采等工业领域具有广阔的应用前景。

主权项

1.一种具有梳型结构阴离子型高分子表面活性剂，其特征在于，所述梳型结构阴离子型高分子表面活性剂为烷氧基化低聚十五烯(烷)基间酚酯，至少包括如下结构式的成分：其中，为天然腰果酚结构或氢化腰果酚结构；所述T为小分子连接基团，连接在苯环上酚羟基的邻位或对位；所述P、Q为一个或多个相同或不同的烷氧基；所述S为‑SO3H、‑SO3(M)、PO3H2、PO3H(M)、PO3(M)2、CH2COOH或CH2COO(M)；其中，所述M为Na、K、NH4或Li；所述x为整数，且0≤x≤30；所述m为整数或分数，且0≤m≤100；所述n为整数或分数，且1≤n≤100。