[发明专利]一种复合抛光液及其制备方法有效
申请号: | 201810049653.7 | 申请日: | 2018-01-18 |
公开(公告)号: | CN108034362B | 公开(公告)日: | 2020-01-10 |
发明(设计)人: | 蒋秋菊 | 申请(专利权)人: | 深圳市永霖科技有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C09K3/14 |
代理公司: | 11588 北京华仁联合知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王希刚 |
地址: | 518109 广东省深圳市龙华*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种复合抛光液及其制备方法,属于精密加工领域。一种复合抛光液,其特征是,所述抛光液按质量百分比,包括1~25%的磨料颗粒和75~99%的基液,所述磨料颗粒由I级磨粒、II级磨粒和III级磨粒组成,所述I级磨粒、II级磨粒和III级磨粒的质量比为1:0.5~2:0.5~5,各级磨粒平均粒径为0.5~50微米,且I级磨粒>II级磨粒>III级磨粒,三种磨粒各自独立的选自金刚石颗粒、立方BN颗粒、SiC颗粒.本发明所述抛光液按质量百分比,包括1~25%的磨料颗粒和75~99%的基液,所述磨料颗粒包括三个等级的磨粒,其磨粒平均粒径不同,可以有效去除材料表面不同程度的凸起。 | ||
搜索关键词: | 一种 复合 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种复合抛光液,其特征是,所述抛光液按质量百分比,包括1~25%的磨料颗粒和75~99%的基液,所述磨料颗粒由I级磨粒、II级磨粒和III级磨粒组成,所述I级磨粒、II级磨粒和III级磨粒的质量比为1:0.5~2:0.5~5,各级磨粒平均粒径为0.5~50微米,且I级磨粒>II级磨粒>III级磨粒,三种磨粒各自独立的选自金刚石颗粒、CBN颗粒、SiC颗粒,所述基液按下述方法制备所得, 包括下述工艺步骤:/n(1)将SiO
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