[发明专利]一种曲面工件超精密抛光方法有效
申请号: | 201810050346.0 | 申请日: | 2018-01-18 |
公开(公告)号: | CN108177029B | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 蒋秋菊 | 申请(专利权)人: | 深圳市佳欣纳米科技有限公司 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B35/00 |
代理公司: | 44384 深圳市中科创为专利代理有限公司 | 代理人: | 谭雪婷;彭西洋 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙华区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种曲面工件超精密抛光方法,涉及超精密加工领域。一种曲面工件超精密抛光方法,所述方法为:室温下,将工件先后置于抛光液I和II中,并控制抛光液以一定流速流经工件的待抛光面,持续处理至少5min,所述抛光液I和II按质量百分比,包括1~25%的磨料和75~99%的基液;所述抛光液I所用磨料为氧化铝晶须、SiC晶须、ZnO晶须、碳纤维;所述抛光液II所用磨料为平均粒径为0.5~50微米的超硬材料颗粒。利用上方法可以有效去除材料表面不同程度的凸起,获得好的抛光效果。 | ||
搜索关键词: | 抛光液 磨料 超精密抛光 曲面工件 晶须 超硬材料颗粒 超精密加工 氧化铝晶须 质量百分比 抛光效果 平均粒径 抛光面 碳纤维 基液 去除 凸起 | ||
【主权项】:
1.一种曲面工件超精密抛光方法,其特征是,所述方法为:室温下,将工件先后置于抛光液I和II中,并控制抛光液以一定流速流经工件的待抛光面,持续处理至少5min,所述抛光液I和II按质量百分比,包括1~25%的磨料和75~99%的基液;所述抛光液I所用磨料为氧化铝晶须、SiC晶须、ZnO晶须、碳纤维,且磨料的长径比为2~10,长度为5~10微米;所述抛光液II所用磨料为平均粒径为0.5~50微米的超硬材料颗粒,所述超硬材料为金刚石颗粒、CBN颗粒、SiC颗粒,所述基液按下述方法制备所得, 包括下述工艺步骤:/n(1)将SiO
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