[发明专利]背照式图像传感器的背面结构及制备方法

摘要

本发明提供一种背照式图像传感器的背面结构及制备方法，背面结构包括：衬底，衬底包括凹槽和光电二极管预制备区；所述凹槽的底部下方填埋有一金属互联层；第一介质层，覆盖光电二极管预制备区处的衬底的表面；氧化层，覆盖凹槽的底部和侧壁，并且覆盖第一介质层的表面；开口，同时穿过所述凹槽内的所述氧化层和所述凹槽的底部的所述衬底，且终止于所述金属互联层；金属垫，在所述凹槽内部覆盖所述氧化层的一部分，并填充所述开口且与所述金属互联层接触；金属垫隔离层，形成于所述金属垫表面，用于将所述金属垫与外界环境进行隔离。本发明可解决背照式图像传感器背面结构的金属垫易受外界环境影响，进而导致器件性能下降的问题。

主权项

1.一种背照式图像传感器的背面结构，其特征在于，包括：衬底，所述衬底包括凹槽和光电二极管预制备区；所述凹槽的底部下方填埋有一金属互联层；第一介质层，覆盖所述光电二极管预制备区处的所述衬底的表面；氧化层，覆盖所述凹槽的底部和侧壁，并且覆盖所述第一介质层的表面；开口，同时穿过所述凹槽内的所述氧化层和所述凹槽的底部的所述衬底，且终止于所述金属互联层；金属垫，在所述凹槽内部覆盖所述氧化层的一部分，并填充所述开口且与所述金属互联层接触；金属垫隔离层，形成于所述金属垫表面，用于将所述金属垫与外界环境进行隔离；所述金属垫隔离层为采用所述金属垫对应的金属材料的氧化物制成的隔离层。